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【半导体风向标】下一代EUV光刻，蓄势待发！
【imec先进图案化工艺和材料副总裁Steven Scheer之前曾撰文表示，2019年，极紫外光（EUV）微影技术在先进逻辑晶圆厂进入量产，如今动态随机存取记忆体（DRAM）厂商也对采用EUV制程越来越感兴趣。这一切都要归功于阿斯麦（ASML）的倾心倾力与坚持研发，有了他们的助力，这项技术才能取得超乎意料的重大突破。新一波革命是引进高数值孔径（0.55NA）的EUV微影技术，把光学成像的半间距（half pitch）缩小至8nm。】
넶22 2023-06-04 -
【势银膜链】下游市场仍处于波动期，光刻胶本土企业将在哪些产品上继续“发力”？
作为电子领域微细图形加工的关键性材料，光刻胶在半导体、LCD、PCB 等行业的生产中均发挥着重要作用。
넶34 2023-06-04 -
【势银膜链】蓝皮书 | 势银启动《中国先进聚酰亚胺材料产业发展蓝皮书2022》撰写
聚酰亚胺（Polyimide, PI）是指主链上含有酰亚胺环（-CO-N-CO-）的一类聚合物，其中以含有酞酰亚胺结构的聚合物最为重要，是综合性能最佳的有机高分子材料之一。PI 耐高温达 400℃以上，长期使用温度范围为-269～ 260℃，部分无明显熔点，且具有高绝缘性能。
넶107 2023-06-04 -
【势银膜链】势银启动《光刻胶及原料产业最新进展与趋势》专题研究：深度聚焦光刻胶产业上下游，挖掘行业深层次堵点与机
光刻胶（Photoresist简称PR）又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的有机混合物，是电子领域微细图形加工的关键性原材料，是电子化学品中技术壁垒最高，也是光刻制程中不可或缺的核心材料。在半导体加工工艺中，用于将掩膜版图形转移到基板上。
넶43 2023-06-04 -
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势银启动《光刻胶及原料产业最新进展与趋势》专题研究：深度聚焦光刻胶产业上下游，挖掘行业深层次堵点与机会
势银启动《光刻胶及原料产业最新进展与趋势》专题研究：深度聚焦光刻胶产业上下游，挖掘行业深层次堵点与机会
넶82 2023-04-28
